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第304章 突破性进展第四代同步辐射装置（第2页）

如今取得了突破性进展。

建设第四代同步辐射装置。

放哪里基本都不会有太大区别。

只不过，放在燕都会方便很多。

无论是人才资源……还是各大顶尖企业、高校、实验室、研究所。

都可以轻松使用到第四代同步辐射装置。

应用到研究领域。

放在沅江市……作为一个小城市，人才储备、人才资源不够。

企业、高校、研究所、实验室，要使用同步辐射装置的光束线做研究，就需要派人过去。

在当地招人是比较难的。

不过，对于要用到同步辐射装置做实验和研究的机构。

也不差这点钱。

目前，除了第四代同步辐射装置取得了突破性进展。

已经在考虑建设第四代同步辐射装置。

利用同步辐射装置，加上SSmb技术尝试芯片光刻的技术研究，也有一定的进展。

目前，燕都这边使用的同步辐射装置，还没有那么先进。

但利用同步辐射装置+SSmb技术，对晶圆进行光刻，已经有一些进展。

只不过，要使用稳定、高精度的EUV光源，尝试7nm以下的工艺太难。

但是，尝试80-90nm，甚至微米级别的工艺完全没有问题。

要知道，目前市面上，苹果、高通使用的也就是14nm工艺而已。

市面上主流电子设备，28nm、45nm都是很常见的！

如今第四代公布辐射装置已经有突破性进展。

SRF-FEL-EUV光刻厂项目取得进展应该不远了。

到时候，28nm、16nm、7nm、5nm、3nm、1nm，都能一锅端。

那个产量，能把芯片打成白菜价！

当然，前期投入很大。

但是产能高啊！

通过综合产能，高端芯片和低端芯片一并生产。

大量铺货的情况下，成本还是能降下来的。

……

沅江市。

相关领导已经收到夏科院那边的通知。

夏科院会派人过来考察？

建设一个大型项目？

听到这个消息，还感觉到奇怪。

当李易离开夏科院同步光源研究所，给沅江市领导打去电话说了此事。